光刻工艺 光刻工艺流程

为什么光刻加工工艺 要使用 光刻胶

就相当于照相一样，曝光的时候，光刻胶发生化学反应，从而刻画出掩模板上的电路图，然后经过刻蚀等办法转移到硅版上，跟显影差不多

半导体光刻工艺之去胶

经过刻蚀或者离子注入之后，已经不再需要光刻胶作为保护层，因此可以将光刻胶从硅片的表面除去，这一步骤简称为去胶。在集成电路工艺中，去胶的方法包括湿法去胶和干法去胶，在湿法去胶中又分为有机溶剂去胶和无机溶剂去胶。

使用有机溶剂去胶，主要是使光刻胶溶于有机溶剂中，从而达到去胶的目的。有机溶剂去胶中使用的溶剂主要有丙酮和芳香族的有机溶剂。无机熔液去胶的原理是利用光刻胶本身也是有机物的特点（主要由碳和氢等元素构成的化合物），通过使用一些无机溶剂（如硫酸和双氧水等），将光刻胶中的碳元素氧化称为二氧化碳，这样就可以把光刻胶 从硅片的表面除去。不过，由于无机熔液会腐蚀AL，因此去除AL上的光刻胶必须使用有机溶剂。

干法去胶则是利用等离子体将光刻胶去除。以使用氧等离子为例，硅片上的光刻胶通过在氧等离子体中发生化学反应，生成的气态的CO，CO2和H2O可以由真空系统抽走，相对于湿法去胶，干法去胶的效果更好，但是由于干法去胶存在反应残留物的玷污问题，因此干法去胶与湿法去胶经常搭配使用。

光刻工艺的工作为啥这么累

工作量大，经常加班。

1、光刻工艺的工作主要负责设计工艺样式，会根据要求进行增加任务量，工作量大消耗劳动力是劳累的。

2、光刻工艺的工作会根据客户的要求按时制作完成，进行赶工期会实行加班，是很累的。

光刻工艺灯光用手机拍为什么会变绿色

没调整好白平衡。

1、光刻工艺灯光用手机拍会变绿色是没调整好白平衡，首先打开手机相机应用。

2、点击右上角的小齿轮，然后在打开的页面中看到“白平衡”功能选项。

3、根据个人需求进行调高或者调低即可。

光刻工艺的英文怎么说

光刻工艺
LIThography process
光刻工艺
Lithography process